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› 半导体制造设备
薄膜沉积 CVD
半导体制造设备
C38
设备参数
设备名称
薄膜沉积 CVD
品类
半导体制造设备
子类
C38
来源
设备型号库
类型
沉积
industry_ids
[26]
典型用途
介质膜
制程节点
—
适用行业
C39
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数据来源：模极社产业数据库（真实采集，2026-08-16）